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TiO2 and Al2O3 ultra thin nanolaminates growth by ALD; instrument automation and films characterization

by Tiznado,H., Domínguez,D., Cruz,W. de la, Machorro,R., Curiel,M., Soto,G.
Published 2012

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Deposit of AlN thin films by nitrogen reactive pulsed laser ablation using an Al target

by Chale-Lara,F., Zapata-Torres,M., Caballero-Briones,F., Cruz,W. De la, González Cruz,N., Huerta-Escamillac,C., Farías,M.H.
Published 2019

Digital revista

SCIELO

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Desarrollo de dispositivos semiconductores basados en películas delgadas

by Baquero, Rafael, Calderón, C., Mejía, A. S., Sandino, J., Ortega, A., Cruz, W. de la, Teherán, P., Cota, L., Moreno, L. C., Ariza, B., Ortiz, A., Flórez, M., Torres, J., Cisneros, L., Hernández, L. C., Caicedo, L. M., Cediel, Gilberto, Leal, Hildebrando, Rodríguez, J. Alexis, Páez, B. A., Jácome, C. E., Méndez, H., Grisales, M., Quiroga, Luis, Camacho, A.
Published 1998

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