Plastocrono e rendimento de feijão-de-vagem cultivado sob ambiente protegido e no ambiente externo em semeadura tardia no outono

O feijão-de-vagem (Phaseolus vulgaris L.), ou feijão-vagem, é uma hortaliça que, durante o outono no Estado do Rio Grande do Sul, pode ser favorecida pelo cultivo no interior de estufa plástica (cultivo protegido). A determinação do intervalo de tempo entre a emissão de dois nós consecutivos em dicotiledôneas, denominada plastocrono, é importante em estudos de modelagem e para o manejo dessa hortaliça. O objetivo deste estudo foi determinar o plastocrono e o rendimento da cultura de feijão-de-vagem em cultivo sob ambiente protegido por estufa plástica e no ambiente externo. Um experimento foi conduzido durante o outono de 2009, em Santa Maria, em dois ambientes: em ambiente protegido (estufa plástica de polietileno de baixa densidade, com 100µm de espessura) e em ambiente externo (céu aberto). Foram determinadas a densidade de fluxo de radiação solar global incidente, a temperatura do ar, a soma térmica diária, a emissão de nós (plastocrono) na haste principal até o florescimento e o rendimento precoce de vagens nos dois ambientes. A disponibilidade de radiação foi 26% menor no ambiente protegido, e as temperaturas mínima, média e máxima diária foram superiores. O plastocrono foi maior (velocidade de emissão de nós foi menor) no ambiente protegido, enquanto o rendimento de vagens foi similar nos dois ambientes. A redução da densidade de fluxo de radiação solar global incidente em função da cobertura plástica foi apontada como a causa da menor velocidade de emissão de nós (maior plastocrono) pelas plantas no ambiente protegido, enquanto o crescimento reprodutivo no ambiente protegido foi similar ao do ambiente externo, provavelmente devido a menor exposição das plantas a possíveis estresses, mecânico por vento e hídrico parcial nas horas mais quentes dos dias de maior demanda hídrica, além do aumento da fração difusa da radiação solar, que, em parte, compensou o sombreamento pela estufa.

Bibliographic Details

Main Authors:	Heldwein,Arno Bernardo, Streck,Nereu Augusto, Sturza,Vinícius Soares, Loose,Luis Henrique, Zanon,Alencar Junior, Toebe,Marcos, Souza,André Trevisan de, Peters,Marcelo Boschmann, Karlec,Fábio
Format:	Digital revista
Language:	Portuguese
Published:	Universidade Federal de Santa Maria 2010
Online Access:	http://old.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S0103-84782010000400004
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