Technologische Grundprozesse der Vakuumelektronik [electronic resource] /
1. Feinbau der Materie -- 1.1. Grenzen -- 1.2. Metall, Keramik, Glas -- 1.3. Verknüpfungen mit strukturellen Fragen -- 1.4. Ausgewähltes Schrifttum -- 2. Grundprozesse der Handhabung -- 2.1. Anpassung -- 2.2. Verbinden -- 2.3. Vorbehandlung der Materialien und ihr Verhalten im Vakuum -- 2.4. Ausgewähltes Schrifttum -- 3. Freie Elektronen -- 3.1. Sekundärelektronen -- 3.2. Thermische Emission -- 3.3. Ausgewähltes Schrifttum.
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Berlin, Heidelberg : Springer Berlin Heidelberg,
1974
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KOHA-OAI-TEST:2194762018-07-30T23:56:37ZTechnologische Grundprozesse der Vakuumelektronik [electronic resource] / Katz, Helmut. author. SpringerLink (Online service) textBerlin, Heidelberg : Springer Berlin Heidelberg,1974.ger1. Feinbau der Materie -- 1.1. Grenzen -- 1.2. Metall, Keramik, Glas -- 1.3. Verknüpfungen mit strukturellen Fragen -- 1.4. Ausgewähltes Schrifttum -- 2. Grundprozesse der Handhabung -- 2.1. Anpassung -- 2.2. Verbinden -- 2.3. Vorbehandlung der Materialien und ihr Verhalten im Vakuum -- 2.4. Ausgewähltes Schrifttum -- 3. Freie Elektronen -- 3.1. Sekundärelektronen -- 3.2. Thermische Emission -- 3.3. Ausgewähltes Schrifttum.Physics.Physics.Applied and Technical Physics.Springer eBookshttp://dx.doi.org/10.1007/978-3-642-93028-7URN:ISBN:9783642930287 |
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1. Feinbau der Materie -- 1.1. Grenzen -- 1.2. Metall, Keramik, Glas -- 1.3. Verknüpfungen mit strukturellen Fragen -- 1.4. Ausgewähltes Schrifttum -- 2. Grundprozesse der Handhabung -- 2.1. Anpassung -- 2.2. Verbinden -- 2.3. Vorbehandlung der Materialien und ihr Verhalten im Vakuum -- 2.4. Ausgewähltes Schrifttum -- 3. Freie Elektronen -- 3.1. Sekundärelektronen -- 3.2. Thermische Emission -- 3.3. Ausgewähltes Schrifttum. |
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